无需euv光刻机和先进制程最新资讯，工信部推广国产DUA光刻机 概念爆发据悉，EUV光刻机采用13.5nm波长的极紫外光，可实现8nm的曝光分辨率，用于先进制程芯片制造；其技术难点在于光学系统、光源等关键子系统。

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